EDI纯水设备功能特点
由预处理系统、反渗透纯水系统、EDI深度除盐系统、后纯化处理系统、杀菌系统，循环供水系统组成的多功能全自动装置。使用安全、方便，运行费用低廉，产水水质稳定的全自动成套设备

超纯水设备工艺：

1、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm过滤器→产水(≥18MΩ.CM)

2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→级反渗透(正电荷反渗透膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)

3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)

4、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→混床→紫外线杀菌器→过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)

EDI超纯水设备两大核心技术：

反渗透技术

反渗透是外加压力对高浓度溶液提供比渗透压差大的压力，水分子将被迫通过半透膜到低浓度的一边反渗透可以滤除高达98%以上的盐分以及在内的绝大多数污染物，我公司选择的反渗透膜采用美国进口，其高脱盐率，大大保证了水的品质。

超纯水设备应用范围：

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

集成电路生产中高纯水清洗硅片

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏显像管、萤光粉生产

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

实验室和中试车间

汽车、家电表面抛光处理

光电产品、其他高科技精微产品